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无尘车间除湿机

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品牌: 正岛
商品型号: ZD-8166C无尘车间除湿机
产品规格: ZD-8166C无尘车间除湿机
单价: 8.00元/
起订: 1
供货总量: 1000
发货期限: 自买家付款之日起 1 天内发货
所在地: 浙江 杭州市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2017-07-12 16:55
浏览次数: 517
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公司基本资料信息






 
 
产品详细说明

无尘车间除湿机的详细信息和相关资料:细菌和其他生物污染(霉菌,病毒,真菌,螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时,可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至最低。

无尘车间生产中湿度的控制要求:

湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件,相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内,允许误差在±1%的狭窄的范围内,例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。

近年,在这些规定范围中保持处理空气过程,使我们必需承担资金和运营成本。但是为什么值得花费这么多钱用在无尘车间、洁净室中控制相对湿度呢?道理很简单!因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素,其中包括:细菌生长;工作人员感到室温舒适的范围;出现静电荷;金属腐蚀;水汽冷凝;光刻的退化;吸水性。


正岛电器生产的ZD-8166C无尘车间除湿机具有精密度高,湿度可自动控制的特点,客户可根据自己所需要的湿度自行设定,当湿度达到你的要求时会自动停机,当湿度高于你所设定的范围时又会自动开机。具有操作简单、方便、省电的功能。

欢迎您来电咨询无尘车间除湿机的详细信息!无尘车间除湿机的种类有很多,不同品牌的无尘车间除湿机价格及应用范围也会有细微的差别,而我们将会为您提供优质的产品和全方位的售后服务。同时,我公司郑重承诺:整机保修一年,压缩机保修三年。质量第一,诚信至上。

电话:0571-8673 1596       139 5811 5553             网址:www.chinazedo.com

 

  
正岛ZD-8166C无尘车间除湿机技术参数:

      ZD-8166C
湿 166升/天
控制方式 湿度智能设定
适用面积 130 ~160
适用温度 5~38℃
       220V~50Hz
输入功率 2200w
自动检测 有无故障 一目了然
排水方式 塑胶软管 连续排水
循环风量     2000 m 3
运转噪音 50dB
智能保护 三分钟延时 压缩机启动
设备重量 72 kg
活性碳滤网 标 配
体积(宽深高) 680×600×1210mm


正岛ZD-8166C无尘车间除湿机性能说明:

● 操作简便,只需轻按一个键
● 湿度自动控制,环境湿度精确显示
● 智能化操作,特有±1湿度设定
● 电子式温控化霜,化霜更彻底,更迅速
● 内置防渗漏接水盘,外接软管连续排水
● 特有防振防滑万向轮脚轮,移动方便
● 自动判断故障功能,维护方便快捷
● 特有断电后开机自动恢复到以前的设定状态

相关知识链接:

高湿度实际上减小了无尘车间、洁净室表面的静电荷积累──这是大家希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过50%时,静电荷开始迅速消散,但是当相对湿度小于30%时,它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。

相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中,半导体无尘车间、洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。
  
很多化学反应的速度,包括腐蚀过程,将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时,高湿度可以使反应加速。幸运的是,一些金属,例如铝,可以与水形成一层保护型的氧化物,并阻止进一步的氧化反应;但另一种情况是,例如氧化铜,是不具有保护能力的,因此,在高湿度的环境中,铜制表面更容易受到腐蚀。
  
在相对湿度较高的环境中,浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键,可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要,但当相对湿度在70%左右时,就成为颗粒之间黏附的主要力量。
  
到目前为止,在半导体无尘车间、洁净室中最迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性,它对相对湿度的控制范围的要求是最严格的水准。
  
实际上,相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下,光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然,改变粘性,就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。参考两个城市,一个试验证实,相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A(原文如此)。
  
此外,在高的相对湿度环境下,由于水分的吸收,使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易,甚至不需要聚合改性剂,如六甲基二硅氮烷(HMDS)。 
  
总而言之半导体无尘车间、洁净室中控制相对湿度不是随意的。但是,随着时间的变化,最好回顾一下常见的被普遍接受的实践的原因和基础。

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